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電流密度對沉積層結(jié)構(gòu)的影響
發(fā)布者:handler 發(fā)布日期:2018-12-18

在電鍍作業(yè)中,影響電鍍過程的因素有很多,其中之一就是電流密度。對于一定的電解液而言,允許使用的電流密度通常有一個上下限范圍,超出此范圍獲得的鍍層均不合格。實(shí)際電鍍時(shí),一般總希望允許使用的電流密度較大。

電流密度對鍍層結(jié)晶粗細(xì)的影響較大,當(dāng)電流密度過低時(shí),鍍層結(jié)晶較大,反之,當(dāng)電流密度過高時(shí),鍍層結(jié)晶細(xì)密。在允許的合適電流密度范圍內(nèi),鍍層結(jié)晶均較細(xì)。

各種電解液都有最適宜的電流密度范圍,影響這個范圍的因素主要有電解液性質(zhì)、配制比例、添加劑的性質(zhì)的濃度、緩沖劑濃度、溫度、攪拌等。一般來說,主鹽濃度增加、溫度升高、攪拌強(qiáng)度增加,可以使允許的電流密度范圍上限增大。

此外,陽極允許的電流密度一般比陰極小,若電流密度過高,則陽極易鈍化或陽極溶解電流效率下降。金屬離子在陰極的沉積大于陽極的溶解量,使金屬離子濃度不穩(wěn)定,這就會影響到鍍層的質(zhì)量。因此,在生產(chǎn)工藝中要規(guī)定陽極和陰極的面積比例,從而維持電解液中金屬離子的濃度基本不變。

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